抛光的原理主要反映在2个方面：微粒研磨原理；物理化学原理。
1、微粒研磨：当磨料颗粒由粗磨到细磨、抛光时，磨料在石材表面磨削的痕迹由粗到细再到无肉眼看到的痕迹，表面便呈现光滑、平整、细腻，当深度达110微米时，被加工面出现镜面光泽，色泽鲜艳。
2、物理化学原理：抛光的过程有2个，即“干抛光与湿抛光”，抛光磨石在“干与湿”之间当石材产品发生物理化学作用，干抛光是在石材表面温度升高使水分蒸发，导致抛光磨石浓度增大，从而达到强化效果，产品光泽度开始达到了理想要求，光泽度达90度以上或更高。
晶面处理工艺特点：
经本材料处理后的各类陶瓷、抛光砖等建筑材料，其纳米结构材料完全可填补表面的气孔和微裂瑕疵，并在表面形成一层特殊防护坚固耐用具有结构稳定的纳米级双疏保护层，更能起到极强的疏水疏油和自清洁功能，使陶瓷、抛光砖表面具有无可比拟的抗污性能，防止墨水、油污、水泥、橡胶印、茶水、酱油、咖啡等各种污物的渗入，即使再顽固污迹，也只要轻轻水洗擦拭便可清洁干净，保证石材、抛光砖的超亮、奇特的防污性能和持久的耐侯性、抗磨性等功能。
具有很强的防滑性：在干态情况下，摩擦系数大于0.95u，接近国家标准的2倍，湿态情况下，摩擦系数大于0.6u.
适用范围：
玻化砖、花岗石、人造石、微晶石、水磨石等石材。
