电子行业纯水设备要求

随着电子和半导体工业的发展，人们对生产中所使用的超纯水的质量要求在不断地提高，超纯水的标准也在不断提高。目前超纯水的要求主要有:水的电阻率接近理论值，25℃下为18Mcm;对微粒、细菌等有害杂质的控制也是极其严格的，因为微粒会使半导体的外延层产生尖峰，光刻过程产生***，而细菌本身可视作微粒，且体内含有钠、钾、磷等多种微量金属元素，总有机碳(T 0 C)也会对形成氧化膜产生不良影响。

进水质量、运行流量和树脂粒度均匀性等主要因素对电子级超纯水精制混床离子交换树脂出水质量的影响。出水质量随着进水质量的提高而提高，运行流量控制在50一70B V/h时为佳，采用粒度更均匀的树脂出水质量和周期制水量更好。在一定的运行条下，电子级超纯水精制混床离子交换树脂完全能满足电子行业对出水水质的要求。

典型实验室超纯水系统组成纯水制备系统

以自来水作为进水，制备符合实验室用水标准的二级或三级纯水的设备。实验室每天纯水的用量有可能从数升到数百升不等。在设计之处首先应该考虑的是：确定使用者所需纯水的水质和用水量，并据此计算出使用者所需纯水制备设备的小时流量。通常建议纯水制备系统每天工作小时以8小时左右为宜，工作时间过长不但增加耗材消耗量，也减少整个纯水制备系统的寿命；过少则对纯水制备效率有影响。        

纯水储存系统

储存系统在每日高峰用水之间可以起到缓冲的作用，使得纯水制备系统有足够的时间生产出实验室每日所需的纯水。同时纯水储存水箱必须能够保证纯水的水质稳定免受污染。水箱的材料和诸多设计细节都会影响到水箱所存储纯水的水质。

超纯水系统

实验室超纯水系统在设计时就应该明确的超纯水的用途。根据具体应用不同，超纯水的水质及其纯化元件也有不同。根据超纯水的用途，需要选择合适的超纯水纯化元件。例如可以去除有机物的紫外灯、可以去除热原的超滤膜柱等。

电子行业纯水设备要求

随着电子和半导体工业的发展，人们对生产中所使用的超纯水的质量要求在不断地提高，超纯水的标准也在不断提高。目前超纯水的要求主要有:水的电阻率接近理论值，25℃下为18Mcm;对微粒、细菌等有害杂质的控制也是极其严格的，因为微粒会使半导体的外延层产生尖峰，光刻过程产生***，而细菌本身可视作微粒，且体内含有钠、钾、磷等多种微量金属元素，总有机碳(T 0 C)也会对形成氧化膜产生不良影响。

进水质量、运行流量和树脂粒度均匀性等主要因素对电子级超纯水精制混床离子交换树脂出水质量的影响。出水质量随着进水质量的提高而提高，运行流量控制在50一70B V/h时为佳，采用粒度更均匀的树脂出水质量和周期制水量更好。在一定的运行条下，电子级超纯水精制混床离子交换树脂完全能满足电子行业对出水水质的要求。