电镀涂装行业中，为了增加镀件表面光洁度、亮度、附着力，电镀液的配制需要用电导率在15uS/cm以下的纯水。另外在镀件漂洗时也需用电导率在10uS/cm以下电镀纯水来清洗，电镀行业用水处理系统包括电镀前电镀液配制用纯水系统、电镀漂洗废水中稀有金属回收漂洗水循环利用电镀废水处理零排放系统。通常系统由预处理，超滤，反渗透(RO)，离子交换，EDI设备等组成，以满足电镀行业对各种水质的要求。

涂装电镀用纯水设备发展历程　　近几十年以来，混合床离子交换技术一直作为超纯水制备的标准工艺。由于其需要周期性的再生且再生过程中使用大量的化学药品(酸碱)和纯水，并造成一定的环境问题，因此需要开发无酸碱超纯水系统。

正因为传统的离子交换已经越来越无法满足现代工业和环保的需要，于是将膜、树脂和电化学原理相结合的EDI技术成为水处理技术的一场革命。其离子交换树脂的再生使用的是电，而不再需要酸碱，因而更满足于当今世界的环保要求。

自从1986年EDI膜堆技术工业化以来，全世界已安装了数千套EDI系统，尤其在制药、半导体、电力和表面清洗等工业中得到了大力的发展，同时在废水处理、饮料及微生物等领域也得到广泛使用。

随着超纯水技术在半导体行业的应用口益广泛，半导体制造单位对超纯水的要求也越来越高。半导体行业是一个高能耗的行业。在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。

1超纯水制造工艺

半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺川。

1.1预处理部分

预处理的作用是对原水进行粗加工.提供符合Ro进水要求的给水。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SD≤4;去除游离氯等氧化性物质;去除部分有机物;降低LSI ,避免碳酸盐结垢。

在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。而该半导体制造厂采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分，主要原因如下:

(I)传统的预处理过程中SDI值不好控制，一般>5，不利于后续的一级反渗透系统的运行;而超滤装置的出水SDI值比较稳定(}1)，能够有效地保证一级反渗透系统的运行。

(2)传统的预处理方式占地而积大，而“粗过滤器+超滤装置”占地而积小，节约了基建费用。

(3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比，超滤装置的更换比较方便。

(4)近年来，由于超滤技术的不断成熟，系统能够稳定安全地运行，而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低，在一次性投资和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。

医用纯水的分级介绍了医用纯水的分级概念，按照新中国药典的相关定义，应用电导率、总有机碳(TOC>,微生物含量等关键指标将医用纯水划分为4个等级，重点阐述了医用纯水水质的检测标准，为医院规范使用医用纯水提供了依据。

医用纯水在医院中的应用越来越广泛，在与国际接轨的我国药典对医药用水的法定制备方法进行了重新定义。中国药典(2000年版)中所收载的制药用水较以前有很大进步，因其使用的范围而分为纯化水、注射用水及灭菌注射用水，将过去的蒸馏水改为纯化水，并且对医用纯水具体定义为“采用蒸馏法、离子交换法、反渗透法或其他适宜的方法制得供医用的水”，实际上放弃了对生产工艺“必须为蒸馏法”的限定，为相关企业采用国际上广为流行的反渗透法制备医用纯水奠定了法理基础与传统的蒸馏法相比较，以反渗透法为基础的联合了新电去离子技术的新工艺具有明显的优越性和先进性。根据医院不同的用途，医用纯水被分为不同的等级，其制备方法也完全不同。