随着科学技术的飞速发展，电子、电力、制药、食品、化工、轻工、航空航天和冶金等行业对纯水的需求量日趋增大，对纯水的水质要求也越来越高，尤其是在油田伴生气洗涤过程中，对超纯水的出水水质提出了更严格的要求。

目前超纯水制备多数采用反渗透技术，但其处理效果不能满足某些特殊需要[z1而电渗析、离子交换技术作为普遍的水去离子手段，具有操作简便、性能可靠、成本造价低、材料消耗少、安全实用等优点。

预处理主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、色度、浊度、有机物等妨碍后续工艺系统正常运行的杂质。通过选择合理的工艺流程，以石英砂过滤器和保安滤器为预处理手段，充分发挥了反渗透膜的性能，增加了水回收率，降低了膜污染，使产水电导率能够始终稳定在17以上。

纯净水设备在工业领域中广泛应用，尤其是在电子行业。在工业飞快发展的时代中，纯净水设备在电子行业中占着举足轻重的地位。电子产品的质量的成品率，有时候就取决于纯净水设备产出水质的好坏。不同种类的电子器件在生产过程中，所需要的纯净水水质也不同。通常一个电子产品制造周期的20%的生产过程中需要使用到超纯水。湿法工艺设备使用的流体中有50%以上为超纯水，随着环保要求的提高，这一比例还在不断提高。　

除此之外，太阳能光伏行业生产过程对生产用水使用要求非常高，集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，对超纯水制备工艺出水水质的要求也越严格。目前国家工业部把电子级水质技术分为五个行业标准，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、 10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。使用电子级超纯水设备可以制取五个标准的水。

随着超纯水技术在半导体行业的应用口益广泛，半导体制造单位对超纯水的要求也越来越高。半导体行业是一个高能耗的行业。在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。

1超纯水制造工艺

半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺川。

1.1预处理部分

预处理的作用是对原水进行粗加工.提供符合Ro进水要求的给水。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SD≤4;去除游离氯等氧化性物质;去除部分有机物;降低LSI ,避免碳酸盐结垢。

在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。而该半导体制造厂采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分，主要原因如下:

(I)传统的预处理过程中SDI值不好控制，一般>5，不利于后续的一级反渗透系统的运行;而超滤装置的出水SDI值比较稳定(}1)，能够有效地保证一级反渗透系统的运行。

(2)传统的预处理方式占地而积大，而“粗过滤器+超滤装置”占地而积小，节约了基建费用。

(3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比，超滤装置的更换比较方便。

(4)近年来，由于超滤技术的不断成熟，系统能够稳定安全地运行，而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低，在一次性投资和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。