用户在采购超纯水设备之前首先要了解自己的用水要求，最主要的是水质的电阻率或电导率是多少以及是否有其他要求（如颗粒、热原等）。目前国内实验室用水主要有国标GB6682-2008，其对实验室用水分为三级，分别对电导（电阻）、pH值、可氧化物、吸光度、可溶性硅及蒸发残渣作了要求。根据用水级别的不同，用户可以选择对应的超纯水机（一级水）、EDI纯水机（二级水）和RO纯水机（三级水）。

除此之外，进水水质也是必须考虑的因素。通常需要根据自来水杂质含量配置不同的预处理系统。高硬度的自来水需要加装软化系统，多泥沙颗粒的自来水需要添加石英砂过滤系统，为了保证进到反渗透膜里的水质需要在自来水末端添加保安过滤等等。预处理设备的耗材寿命通常都比较短，为了维护方便，尽量使用一体化的高效耗材。

其他应考虑的因素是：技术支持、售后服务以及系统的验证校验支持等。

实验室超纯水设备通常由自来水预处理系统、自来水纯化系统、超纯化系统三部分组成。预处理的目的主要是使原水达到反渗透膜分离组件的进水要求，保证反渗透纯化系统的稳定运行。自来水纯化系统主要包括反渗透膜和EDI连续电流去离子模块。反渗透膜可以去除原水中95%以上离子、99%以上的有机物、微生物和颗粒，经济高效。EDI模块通过连续电流去离子高效去除水中的离子及带电有机物，水质可以达到二级水标准，方便环保。超纯化后处理系统通过多种技术进一步去除反渗透纯水中微量离子、有机物等杂质，满足不同用途的最终水质要求。

随着超纯水技术在半导体行业的应用口益广泛，半导体制造单位对超纯水的要求也越来越高。半导体行业是一个高能耗的行业。在半导体产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对作为半导体行业血脉的超纯水系统更是高之又高。

1超纯水制造工艺

半导体行业超纯水制造工艺可以概述为4个部分，分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分。在有些半导体厂中，也有用“阴床十阳床”代替电去离子装置的，主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定，这里主要探讨常用的电去离子工艺川。

1.1预处理部分

预处理的作用是对原水进行粗加工.提供符合Ro进水要求的给水。其主要用来去除原水中的悬浮物、胶体，使SD≤4;去除游离氯等氧化性物质;去除部分有机物;降低LSI ,避免碳酸盐结垢。

在超纯水制造工艺中，传统预处理方式是“多介质过滤器+活性炭过滤器”。而该半导体制造厂采用了“粗过滤器+超滤装置”作为超纯水系统的预处理部分，主要原因如下:

(I)传统的预处理过程中SDI值不好控制，一般>5，不利于后续的一级反渗透系统的运行;而超滤装置的出水SDI值比较稳定(}1)，能够有效地保证一级反渗透系统的运行。

(2)传统的预处理方式占地而积大，而“粗过滤器+超滤装置”占地而积小，节约了基建费用。

(3)与传统的预处理方式在更换填料时需要大量的人力和物力相比，超滤装置的更换比较方便。

(4)近年来，由于超滤技术的不断成熟，系统能够稳定安全地运行，而且超滤膜的价格也有了大幅度的降低，在一次性投资和运行维护费用上跟传统的预处理方式相比差不多。