离子交换混床为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为 10-18MΩ/CM(25℃), 二氧化硅含量(SiO2)≤0.02mg/L 。混床分为单、双床、抛光床,双床可一用一备,(不影响生产用水的连续性);可串联使用,以提高产水水质,有效利用树脂的交换容量;当生产用水量大时,可并联使用,运行相当灵活、方便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。
离子交换混床为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为 10-18MΩ/CM(25℃), 二氧化硅含量(SiO2)≤0.02mg/L 。混床分为单、双床、抛光床,双床可一用一备,(不影响生产用水的连续性);可串联使用,以提高产水水质,有效利用树脂的交换容量;当生产用水量大时,可并联使用,运行相当灵活、方便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。
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