产品特点:
该机型是在电阻蒸发镀膜机的基础上，配备磁控圆柱和磁控平面靶。设备即可以镀铝、硬铬等金属膜层，也可以镀氟化镁等非金属膜。配备的磁控靶，可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等，可以精确的控制膜厚，是镀各种塑胶、陶瓷、玻璃、手机配件等材料的首选机器，一机多用是该机型的价值所在。
技术参数:
▲真空室箱体：主要规格有1000*
▲夹具方式 ：采用公自转行星式齿轮结构，工件速度在15转/分钟可调，挂具有6轴、8轴、10轴、12轴等各种规格，适合不同大小尺寸的装饰、工具镀膜。
▲控制气体方式：采用质量流量计控制，进气稳定，反映速度快，可以配加自动压强控制。
▲靶:除电阻蒸发外，另配置圆柱、平面靶，靶材根据实际要求选择。
▲电源：配备直流电源，高压轰击电源，及蒸发大电流电源。
▲抽真空参数：从大气抽至5*10‾³Pa≤8min 极限真空度8*10‾4Pa
▲抽气系统：主要配备兰州扩散泵，罗次泵，旋片泵，按照真空室大小确定。
▲控制系统： 可以选用手动控制；计算机控制，触摸屏面板控制。
▲其他：配备电热加热系统，可以选配扩散泵自动油温控制装置。冷水机组等等
