该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点,同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点,适合镀各种复合膜层,,可以做到多复合膜层一次性完成,膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数,特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。
技术参数:
真空箱体:主要规格有800*1000mm、1000*1200mm,并可以根据客户具体要求设计非标产品
夹具方式:采用公自转行星式齿轮结构,工件速度在1-15转/分钟可调
控制气体方式:采用质量流量计控制,进气稳定,反映速度快
靶:采用整体制造技术,严格缜密的磁场设计和磁场布局,溅射刻蚀均匀。
电源:配置有高频直流电源(20KW、40KW等规格)、直流脉冲电源(电压、占空比可调节),逆变电弧电源,并可根据实际的情况加装离子源等辅助设施。
抽真空参数:从大气抽至5*10‾³Pa≤15min 极限真空度8*10‾4Pa 控制系统
抽气系统: 主要配备KT-600兰州扩散泵。 配备ZJ600罗茨泵以及2X-70旋片泵各一台。 其他非标产品根据其真空室大小确定所配备的真空抽气机组。 也可以根据客户的需要配备分子泵等