在集成电路的制造过程中，被加工的是单一的硅片，从原材料到产品需要进行几百道物理、化学加工工序，其间如果遭受污染，就会引起产品大量报废，例如64MDRAM，在制造过程中，空气中尘埃粒径应被控制在0.035ym以下；环境微振动值应控制在4.5×10—3mm/s以下，在光刻工序，很小的微振动会引起对位不准，影响产品的成品率。

   为了满足集成电路日益精细的加工要求，各国风淋室在微污染控制技术领域内投入了可观的人力、物力进行系统研究，取得了大量科技成果，涌现了一批高科技产品，诸如超高效过滤器（过滤效率达99.999 99%）的问世及IS0 3级(O.lpm)风淋室的建立。

   在防微振领域，从厂房结构形式、动力设备布置及隔振措施到精密设备防微振措施等方面独特的建树，为集成电路生产提供了一个优良的环境。可以认为风淋传递窗，当今微污染控制领域诸多科技成果的出现无不与集成电路生产的飞速发展有关。

   随着科学技术的发展、进步，防微振技术必须不断地探索、提高和深化，这将是历史的必然。进行大量的工程实践，成功地解决了彩色胶片涂布、惯导系统测试、集成电路光刻工序、空间光学系统检测、激光实验、超薄金属轧制、文物保护等方面的防微振问题，为我国现代化科技的发展做出贡献。

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