溅射靶材 (陶瓷靶材)

陶瓷溅射靶材/化合物溅射靶材:本公司供应的陶瓷溅射靶材含有目前已经成熟的产品和正在开发的各种产品，产品系列较全，并具有良好的技术开发能力。大多数产品已经量产，品质稳定可靠，供货及时。

陶瓷靶材主要生产工艺： 真空热压烧结，热等静压烧结，冷压烧结，冷等静压烧结，真空熔炼，磁悬浮冷坩埚熔炼，真空电弧熔炼等。

陶瓷靶材主要产品列表：（氧化物靶材，氟化物靶材，碳化物靶材，氮化物靶材，硫化物靶材，硅化物靶材，硼化物靶材，硒化物靶材，碲化物溅射靶材，锑化物溅射靶材，磷化物靶材以及一些混合物靶材，掺杂物靶材），我们尽量将批量生产的陶瓷靶材罗列出来，但客户如果未能找到的产品，请与我司联系．我公司一流的开发团队，齐全的生产设备，为您提供靶材完全的解决方案。

可为客户定制成分特殊，规格特别的各类产品，尤其擅长掺杂类陶瓷靶材，混合物靶材。

陶瓷溅射靶材形状尺寸大致如下： 
圆片，圆台（直径<360mm，厚度>1mm） 
矩形，片材，台阶片（长<300mm，宽<300mm，厚度>1mm）
管材，圆环，旋转靶材（直径<360mm，厚度>2mm） 

其它按客户要求订制，可按图纸加工，大尺寸需来电来函洽谈