多弧离子磁控溅射钛靶

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多弧离子磁控溅射钛靶图1

多弧离子磁控溅射钛靶

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多弧离子磁控溅射钛靶 高纯钛靶材溅射靶材 圆柱钛靶、钛板靶、钛管靶 非平衡磁控溅射用钛靶材科研用钛靶材磁控溅射钛靶材,钛靶材99.99%,多弧钛靶材 平面钛靶材,圆片圆形钛靶材 直流溅射用钛靶材,高致密高均匀钛靶材,离子镀溅射用钛靶材,中频交流反应溅射用钛靶材,钛靶材绑定焊接,射频溅射用钛靶材,非对称脉冲溅射用钛靶材,离子束溅射用钛靶材,旋转钛靶材 

牌号:TA1 TA2

纯度:>99.9%

尺寸:直径60 65 90 95 105 可以定制

密度:4.5g/cm3

熔点1660

公差:±0.1mm

晶粒度:均匀

包装:简易包装

运输:快递或物流

交期:3-5

钛的密度为4.506-4.516/立方厘米(20℃),高于铝而低于铁、铜、镍。但比强度位于金属之首。 熔点1668±4℃  钛的导热性和导电性能较差,近似或略低于不锈钢,钛具有超导性。

 

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