德国IC/5膜层控制仪IC/5

IC/5膜层控制仪

多用途的IC/5理想地适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。IC/5可满足即使最复杂、最高要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存容量、过程数据管理，尤其是沉积速率与膜厚的控制。

全面的过程控制

IC/5具有宽广的功能，它可启动抽空过程、控制阀门、启用基片加热器等。这些增强的功能使系统无需配备辅助仪器，从而降低系统的复杂性和成本。IC/5的逻辑与控制功能包含100个可编程的逻辑状态；I/O和TTL继电器电路板提供多至24个继电器输出，28个TTL输入，14个TTL输出，20个计数和20个计时。逻辑状态可与外输入或输出联用。每个状态可包含多至5个功能，并用布尔逻辑链接。IC/5可为源控制或图形记录仪输出提供6个可赋值的模拟输出、沉积速率、膜厚或沉积速率的偏离。

强力的过程处方和数据管理

IC/5膜层控制仪提供若干功能和选件，帮助用户高效地管理过程处方和数据：

     丰富的机载储存 – 多至50个过程和250个膜层。允许即时进入您使用的过程数据和处方文件。这个进入性对包含许多膜层的复杂过程，对运行于多种工艺过程的镀膜系统，以及对研制或工艺发展等应用尤其有价值。

     磁盘驱动选件 – 用于无限制地储存过程数据和处方。离线编辑软件选件 – 用于在计算机（不是IC/5面板）上，键入或输入数据。用这个软件编程更为方便与有效，尤其对多层膜和多材料过程。数据记录 – 有关的过程信息（最终膜厚，平均沉积速率，运行次数，膜层数等）可用ASCII格式自动记录入遥控通讯端口、打印机端口或磁盘中。采用磁盘驱动选件，IC/5可将数据保存于展开的格式中，使过程的数据储存与处理简易化。数据记录可方便地进行运行后分析与快速的校正作用。对于遵循ISO9000或QA认证的生产，过程跟踪是必不可少的。

Auto Z – 用于多层材料的精密镀膜

IC/5自动确定Z比值的Auto Z技术，提高了镀层膜厚与沉积速率的控制精度，用户不再需要计算声阻（Z）比值³。当在晶体上沉积多种材料时，比值Z随材料在晶体上的比例而变化，因此，Z值的变化是动态的。Auto Z连续修正过程进行中的Z比值。在单一晶体上沉积分层的或合金材料的过程中，为保持精确的膜层厚度和沉积速率，这个功能是尤其重要的。

³Auto Z – 美国专利号5,112,642