真空管式气氛炉1400℃

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真空管式气氛炉1400℃图1

真空管式气氛炉1400℃

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2014-11-04 14:4020询价
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※产品用途:

CNT真空管式气氛炉主要为高等院校,科研院所等单位的实验室选提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境,应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀(CVD)、镀膜等新材料新工艺领域。

 产品结构:   

本款管式炉产品以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。

※产品特点:  

节能型的陶瓷纤维材料和双层结构,可将外表温度降到常温。均温区长,操作简便,密封可靠,综合性能指标较高。

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