激光刻膜,薄膜太阳能电池,P1P2P3

激光刻膜机

设备性能
      本机采用半导体泵浦激光器，直线电机驱动；光路可两路或四路激光同步输出。

应用领域
      薄膜太阳电池非晶、微晶、碲化镉的刻膜或划线。
 
主要技术参数
激光波长         1064nm或532nm
刻膜线宽         40μm -80μm
刻膜速度         1000mm/s-1500mm/s
刻膜精度         ±10μm
工作台幅面       1200×600mm 或1100×1400mm